黃河上游水電開發(fā)有限責(zé)任公司太陽能電池及組件研發(fā)實(shí)驗(yàn)室設(shè)備采購項(xiàng)目集中招標(biāo)（重新）招標(biāo)公告

1

適用基材

透明導(dǎo)電玻璃、硅片等基材

2

適用基材尺寸

玻璃≥400mm×400mm，硅片≥166mm×166mm

3

涂膜面積

玻璃有效涂膜面積≥380×380mm，硅片需滿涂

4

固含量

5-75%

5

適用基材厚度

玻璃：1.1~3.5mm

硅片：0.1~0.3mm

6

涂布厚度

0.1-10μm（干膜）

7

涂布速度

0-100mm/s，速度可調(diào)，速度精度0.1mm/s

8

涂布方式

狹縫涂布

9

薄膜均勻性

片內(nèi)薄膜不均度≤5%（采用9點(diǎn)測(cè)試法，以上、下、左、右、中心9點(diǎn)為測(cè)量基準(zhǔn)，計(jì)算方式為Ui=(Umax-Umin)/(Umax+Umin)，U為膜厚），片間薄膜不均勻度≤3%（計(jì)算方式為Ui=(Uavgmax-Uavgmin)/(Uavgmax+Uavgmin)，U為膜厚），玻璃背面無污染。（設(shè)備連續(xù)工作10個(gè)工作日均滿足）

10

適用溶劑體系

水性、油性、有機(jī)溶劑等溶劑型涂料

11

設(shè)備配備雙龍門

每套龍門各配一套模頭、一套供液系統(tǒng)

12

涂硅片

設(shè)備可通過更換″吸附平臺(tái)、模頭”等組件的方式，切換為涂覆硅片的設(shè)備。所需的吸附平臺(tái)及模頭由廠家配齊

13

硅片取放

設(shè)備配備頂升裝置，便于取放硅片

14

預(yù)涂功能

設(shè)備配備預(yù)涂區(qū)域或預(yù)涂輥

15

平移系統(tǒng)

保證龍門或吸附平臺(tái)的平穩(wěn)移動(dòng)，調(diào)平后刀頭與平臺(tái)的相對(duì)平行度＜20μm

16

涂布模頭

采用流體仿真設(shè)計(jì)涂布模頭，刀頭直線度（R）≤3μm，粗糙度Ra≤0.025；唇口直線度（R）≤3μm，提供第三方專業(yè)檢測(cè)報(bào)告

17

模頭數(shù)量配置

涂玻璃模頭配備2個(gè)，涂硅片模頭配備1個(gè)

18

涂布模頭材質(zhì)

不銹鋼合金，具有良好的耐腐蝕性能，可拆卸清洗，防形變

19

模頭升降

模頭升降采用高精度伺服電機(jī)方式驅(qū)動(dòng)；可自動(dòng)調(diào)整唇口與被涂基材的間隙。涂膜高度依基板厚度自動(dòng)調(diào)節(jié)，可手動(dòng)設(shè)置補(bǔ)償功能。左右兩側(cè)可自動(dòng)調(diào)平（調(diào)節(jié)模頭唇口與被涂基板的平行度），自動(dòng)調(diào)平后，狹縫模頭水平校準(zhǔn)誤差精度≤±2μm

20

墊片厚度

0.05/0.08/0.1mm

21

功能模塊

涂布模頭具有防撞、快速充液和排泡功能（快速充液和排泡功能滿足對(duì)供液泵、模頭及管路進(jìn)行充液和排泡。從空模頭、空漿料罐狀態(tài)到可進(jìn)行涂膜狀態(tài)之間間隔不得超過10min）

22

基臺(tái)及材質(zhì)

整機(jī)攜有大理石承重減震基底平臺(tái)

23

基材測(cè)距

每次涂膜前，可自動(dòng)檢測(cè)當(dāng)前基板高度（厚度），同一片基板高度（厚度）檢測(cè)誤差≤3μm

24

注液泵

注液泵應(yīng)能保證漿料擠出均勻連續(xù)，確保涂膜一致性，其速度精度優(yōu)于0.1μl/s；供液速度在1-500μl/s，速度可調(diào)；具備自動(dòng)補(bǔ)液、補(bǔ)液后自動(dòng)泄壓及回吸功能

25

自動(dòng)清洗模塊

設(shè)備具備自動(dòng)清洗模頭功能，自動(dòng)清洗后，必須保證無藥液殘留，管路及型腔內(nèi)部無明顯液體凝聚現(xiàn)象；設(shè)置模頭清洗區(qū)域，配備壓刀槽和排液槽，配合上述自動(dòng)清洗功能和快速充液、排泡功能

26

吸附平臺(tái)

表面平整度≤±5μm，平臺(tái)集成真空吸附系統(tǒng)，大小可調(diào)

27

儲(chǔ)液罐及管路

需采用耐腐蝕材料，液體管路需使用半透明材質(zhì)

28

質(zhì)量保證

涂布過程中，需要通過程序?qū)崟r(shí)控制注液情況，以確保在涂布前端及涂布結(jié)束后，不能出現(xiàn)涂布頭滴液情況

29

防塵和尾廢

設(shè)備配備防塵罩及FFU過濾系統(tǒng)，內(nèi)部潔凈度保證在千級(jí)；配備三色燈及揮發(fā)溶劑排風(fēng)口；機(jī)臺(tái)具有防液體潑灑特性，避免漿料侵入設(shè)備內(nèi)部，損壞內(nèi)部關(guān)鍵元器件

30

模頭拆裝平臺(tái)

需設(shè)計(jì)模頭拆裝平臺(tái)，調(diào)平后的平臺(tái)平整度≤10μm。此外，需要配備專用刀頭分解和內(nèi)部清洗工裝及工具，確定清洗頻次及方法

31

控制方式

高清觸摸屏控制，帶有配方存儲(chǔ)功能，可保存20組以上成熟的工藝參數(shù)；可設(shè)置各系統(tǒng)功能的啟停、運(yùn)動(dòng)軸參數(shù)；操作方便簡(jiǎn)單

1

適用基材

透明導(dǎo)電玻璃、硅片等基材

2

適用基材尺寸

玻璃≥400mm×400mm，硅片≥166mm×166mm

3

抽氣速率

大氣壓至10pa：t≤10s，抽真空速度可調(diào)；最低可抽至0.8pa

4

破真空

破真空時(shí)間需控制在3-10s

5

破真空使用氣體

氮?dú)饣蛘邏嚎s空氣

6

真空泵

進(jìn)口或同等級(jí)國產(chǎn)一流品牌干泵，真空泵開啟可在控制臺(tái)操作

7

水冷機(jī)

設(shè)備自帶用于給真空泵冷卻的水冷機(jī)

8

真空計(jì)

雙真空計(jì)或雙量程真空計(jì)，用以檢測(cè)大氣壓至低壓，并在低壓區(qū)域的量程保證一定精度

9

抽氣方式

上抽式設(shè)計(jì)，需配備勻流板，減弱膜面氣流擾動(dòng)

10

控制方式

高清觸摸屏控制（或顯示器+鍵盤+鼠標(biāo)）；可設(shè)置VCD的快慢抽時(shí)間、保壓時(shí)間等參數(shù)；工藝參數(shù)可分別編號(hào)存儲(chǔ)和導(dǎo)出，具備工藝歷史記錄查看功能

11

安全裝置

防止過高真空造成設(shè)備損壞，設(shè)有自動(dòng)壓力調(diào)節(jié)與安全閥功能

12

功能配置

配有防倒吸，廢氣收集或過濾系統(tǒng)、破空過濾系統(tǒng)、壓力偵測(cè)系統(tǒng)；需額外預(yù)留一個(gè)真空泵接口

1

適用基材

透明導(dǎo)電玻璃、硅片等基材

2

適用基材尺寸

≥400mm×400mm，可向下兼容

3

加熱溫度范圍

室溫~250℃

4

加熱器件

設(shè)定3個(gè)基材工藝腔體，腔體溫度獨(dú)立控制，腔體單獨(dú)進(jìn)料與出料，每個(gè)腔體上下兩個(gè)加熱器

5

升溫速率

升溫速率可調(diào)，≥25℃/min

6

溫度精度

±1℃

7

溫度均勻性

±3℃（采用9點(diǎn)測(cè)試法，將9個(gè)熱電偶貼在基材上，以上、下、左、右、中心9點(diǎn)為測(cè)量基準(zhǔn)，進(jìn)行溫度均勻性測(cè)試）

8

尾氣

工藝過程中能有效均勻排出揮發(fā)的有機(jī)廢氣，排氣速率可調(diào)

9

保護(hù)氣體

設(shè)備可接入氮?dú)獗Ｗo(hù)氣體，配有預(yù)熱腔，確保保護(hù)氣體充分預(yù)熱

10

隨機(jī)工具

附帶取放料工具，避免燙傷

1.1

真空鍍膜室

1.1.1

材料及結(jié)構(gòu)

真空室采用304不銹鋼，腔體內(nèi)壁電解拋光處理，減少表?放?；須保留前后門，便于對(duì)腔體內(nèi)部進(jìn)行維護(hù)

1.1.2

觀察窗

由保護(hù)玻璃、硬質(zhì)玻璃組合而成，需符合X射線防護(hù)國家標(biāo)準(zhǔn)

1.1.3

腔體漏率

漏率優(yōu)于5.0×10-10Pa.m3/S，保壓12小時(shí)后，壓強(qiáng)≤5Pa。

1.2

蒸鍍真空系統(tǒng)

1.2.1

極限真空度

系統(tǒng)潔凈、空置時(shí)優(yōu)于5×10-5pa

1.2.2

分子泵

抽氣速率不小于3000L/s

1.2.3

機(jī)械泵

抽氣速率不小于25m3/h

1.2.4

真空測(cè)量時(shí)間

大氣環(huán)境萬級(jí)潔凈間氛圍下從常壓抽至≤5×10-4pa時(shí)間≤30min；

1.2.4

極限真空測(cè)量

測(cè)量范圍從1×105Pa到5.0×10-5Pa

1.2.4

真空密封

采用金屬密封和氟橡膠圈密封

1.3

蒸發(fā)室基片裝置

1.3.1

基片材料

導(dǎo)電玻璃

1.3.2

樣品尺寸

400mm×400mm的樣品且可向下兼容更多尺寸

1.3.3

基片托盤

通過電機(jī)旋轉(zhuǎn)0~30rpm可調(diào)

1.4

蒸發(fā)源和蒸發(fā)電源

1.4.1

蒸發(fā)源

配備2組金屬蒸發(fā)源和4組有機(jī)蒸發(fā)源，可兼容蒸鍍金屬、有機(jī)及無機(jī)材料；源與源之間均配有防止交叉污染的防污板

1.4.2

金屬蒸發(fā)電源

配備可編程的直流穩(wěn)壓金屬蒸發(fā)電源1套，金屬蒸發(fā)電源功率≥1.5KW及以上，最高升溫溫度可達(dá)1500℃，且通過電流控制方式，精確到0.1A，并實(shí)現(xiàn)蒸鍍速率0.01?/s的精度顯示，可進(jìn)行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制

1.4.3

有機(jī)蒸發(fā)電源

配備有機(jī)蒸發(fā)電源1套；可通過電流或PID智能溫控方式進(jìn)行控制（采用電流控制方式時(shí)需精確到0.1A，并實(shí)現(xiàn)蒸鍍速率0.01?/s的精度顯示，可進(jìn)行電流、電壓模式的任意切換和具有水冷控制；采用PID智能溫控方式時(shí)控溫精度±1℃）；

1.4.4

控制系統(tǒng)

采用PLC+PC控制方式

1.4.5

安全保護(hù)措施

缺水欠壓檢測(cè)與保護(hù)、相序檢測(cè)與保護(hù)、溫度檢測(cè)與保護(hù)、真空系統(tǒng)檢測(cè)與保護(hù)。對(duì)泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的程序互鎖，完備的防誤操作設(shè)計(jì)及保護(hù)。

1.5

膜厚監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

1.5.1

膜厚儀

不少于1組膜厚儀，不少于2套膜厚檢測(cè)探頭

1.5.2

蒸發(fā)速率測(cè)量精度

0.1~0.5A/s(≤±10%)，0.6~10.0A/s(≤±5%)

1.5.3

膜厚儀測(cè)量精度

膜厚儀測(cè)量精度優(yōu)于±0.01?/s，若鍍膜達(dá)到設(shè)置厚度，可自動(dòng)切斷電源，停止鍍膜且擋板關(guān)閉

1.5.4

溫度控制精度

±1℃（RT~700℃）

1.5.5

厚度測(cè)量精度

優(yōu)于±1?；具備與電源聯(lián)鎖功能

1.5.6

片內(nèi)膜厚不均勻性

≤5.0%（樣品尺寸400mm×400mm，且在20nm~100nm范圍內(nèi)的薄膜材料：包括但不限于金、銀、銅、鋁、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料，且由招標(biāo)方指定材料進(jìn)行驗(yàn)證），測(cè)試方法：薄膜有效區(qū)范圍內(nèi)3×3排列9點(diǎn)測(cè)量：不均勻性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）*100%

1.5.7

片間膜厚不均勻性

≤5.0%（樣品尺寸400mm×400mm，且在20nm~100nm范圍內(nèi)的薄膜材料：包括但不限于金、銀、銅、鋁、C60、BCP、LiF2、MgF2等材料，且由招標(biāo)方指定材料進(jìn)行驗(yàn)證），測(cè)試方法：薄膜有效區(qū)范圍內(nèi)3×3排列9點(diǎn)測(cè)量：不均勻性=（膜厚最大值-膜厚最小值）/（膜厚最大值+膜厚最小值）*100%。

1.6

自動(dòng)鍍膜系統(tǒng)

開啟后根據(jù)用戶設(shè)置的升降溫和蒸發(fā)速率參數(shù)，自動(dòng)升溫加熱蒸發(fā)材料，按照制定速率蒸鍍，到達(dá)設(shè)定厚度后自動(dòng)關(guān)閉擋板，并降溫

1.7

水冷系統(tǒng)

1.7.1

冷水機(jī)

控溫范圍：5℃~30℃

1.8

工藝支持

投標(biāo)人提供C60和BCP作為鈣鈦礦器件電子傳輸層的蒸鍍工藝，保證招標(biāo)方在其他薄膜層制備條件不變時(shí)采用該工藝制備電子傳輸層的鈣鈦礦太陽能電池性能不低于招標(biāo)方使用旋涂法制備PCBM和BCP作為電子傳輸層的性能。