招標公告
中航技國際經貿發(fā)展 受中國航空工業(yè)集團公司西安飛行自動控制研究所委托，對雙面對準投影式光刻機【重新招標】進行公開招標。現歡迎合格投標人參加投標。
1. 招標條件
本招標項目雙面對準投影式光刻機【重新招標】 該項目已具備招標條件，現對雙面對準投影式光刻機【重新招標】進行公開招標。
2.項目概況與招標范圍
招標編號：0730-2411010218/01
設備名稱：雙面對準投影式光刻機【重新招標】
數量：壹套
項目概況與招標范圍：雙面對準投影式光刻機
3. 投標人資格要求
3.1 招標文件簡要技術要求：設備用途： 雙面對準投影式光刻機通過微縮投影成像方式，把掩模版上MEMS微結構圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復曝光在涂有膠層的硅片表面，并且能夠通過背對準方式實現同一晶圓的雙面加工。 其他詳見招標文件具體要求。
3.2資格業(yè)績要求：（1）資質要求：投標人應具備有效的營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書，投標文件中提供復印件。 制造商資質要求：制造商應具備有效的營業(yè)執(zhí)照或事業(yè)單位法人證書，投標文件中提供復印件。 （2）財務要求：投標文件中提供2022年或2023年經審計的財務審計報告（至少包含資產負債表、現金流量表、利潤表和審計報告）。 （3）投標人業(yè)績：投標人提供2020年1月1日至今研制同類設備2套以上（含2套）的成功案例，需提供雙方簽署蓋章的有效合同或技術協(xié)議復印件，以合同簽訂時間為準。 （4）信譽要求：在經營活動中，無嚴重違法失信記錄，具有良好的信譽。提供相關證明材料（如信用中國或各級信用信息共享平臺的查詢結果）或信譽承諾書。 設備用途： 雙面對準投影式光刻機通過微縮投影成像方式，把掩模版上MEMS微結構圖形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重復曝光在涂有膠層的硅片表面，并且能夠通過背對準方式實現同一晶圓的雙面加工。 其他詳見招標文件具體要求。
3.3 本次招標不接受聯(lián)合體投標。
4.
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編輯：ebid.eavic
